어닐링로를 선택하는 것은 단지{0}}단지 확인란을 선택하는 것이 아닙니다. 실험실에서 작업을 하든, 연중무휴로 웨이퍼를 생산하든, 귀하의 작업 흐름에 맞는 것을 찾는 것이 중요합니다. 우리는 각각 특정 작업을 위해 제작된 6개의 RTP(고속 열 처리) 모델을 보유하고 있으므로 실제로 귀하에게 적합한 모델을 선택하는 방법을 분석해 보겠습니다-.
첫째: 가장 중요한 기본 사항을 정하세요.
사양에 얽매이기 전에 세 가지 간단한 질문부터 시작해 보세요. 이것은 다른 어떤 것보다 더 빨리 소음을 차단할 것입니다.
1. 얼마나 많이 만들고 있으며, 어떤 크기의 웨이퍼를 사용합니까?
출력과 웨이퍼 크기는 -협상할 수 없습니다-. 따라서 부품을 따라잡을 수 없거나 부품에 맞지 않는 모델은 즉시 배제됩니다.
예를 들어:
4-인치 웨이퍼로 새로운 재료를 테스트하는 대학 연구실이라면(일주일에 소수만 필요함) 당사의 데스크톱 RTP 장비가 완벽합니다. 최대 크기는 6인치이며 작업대에 맞으므로 거대한 설치 공간이 필요하지 않습니다.
중간 규모 생산을 위해 8-인치 웨이퍼(예: 주당 500~2,000개)를 생산하는 경우-반자동 RTP 장비가 적합합니다. 8~12인치를 처리하고 완전 자동화 비용 없이 수동 작업을 줄입니다.
대량-작업장(매주 2,000+개의 웨이퍼, 12-인치 크기)의 경우 자동 RTP 장비 또는 고온 산화 RTP 장비가 필요합니다.- 자동은 로봇과 함께 24시간 연중무휴로 실행되므로 사람의 실수로 인해 속도가 느려지는 일이 없습니다.
간단합니다. 6인치 웨이퍼만 사용한다면 12-인치 용광로를 구입하지 마세요. 공간과 돈을 낭비하게 됩니다.
2. 정확히 무엇을 하려고 하시나요?
우리의 용광로는 단순한-속임수-는 아니지만 특정 작업에 최적화되어 있습니다. CMOS 칩용 SiO2 필름을 성장시켜야 한다면 저열 어닐링용으로 제작된 모델을 선택하지 마세요.-
빠른 일치는 다음과 같습니다.
깨끗하고 밀도가 높은 SiO2 필름(IGBT 또는 MEMS용)을 성장시키고 계십니까? 고온 산화 RTP 장비를 사용하세요.- 정확한 온도(600~1150도)에 도달하고 산소를 매우 낮게 유지합니다.-필름 품질에 매우 중요합니다.
산화, 확산, 어닐링(올인원 기계) 사이를 전환해야 합니까? 산화 및 확산 RTP 장비가 바로 당신의 사람입니다. 1~4개의 프로세스 튜브가 있으므로 필요한 경우 한 번에 두 가지 작업을 실행할 수 있습니다.
저열 어닐링(250~500도)이 필요한{0}}광전자공학(VCSEL 등)을 사용하시나요? 이를 위해 저온-온도 RTP 장비가 제작되었습니다. 민감한 물질이 연소되는 것을 방지하고 미립자를 억제하여-광학-장치 성능의 핵심입니다.
프로토타입에 기본적인 어닐링(예: 이온 주입 수정{0}})만 필요합니까? Desktop RTP는 작업을 지나치게 복잡하게 하지 않고 작업을 수행합니다.
3. 어떤 재료를 사용하고 있나요?
모든 용광로가 모든 재료에 잘 어울리는 것은 아닙니다.
추측을 건너뛰세요:
실리콘(IC 또는 표준 IGBT용)? 대부분의 모델이 작동하지만 여러 프로세스가 필요한 경우 산화 및 확산 RTP 장비가 적합합니다.
SiC 또는 GaN(EV 전원 모듈용)과 같은 넓은{0}}밴드갭 제품이 있습니까? 산화 및 확산 RTP 장비는 높은{1}}열 요구 사항(400~1200도)을 처리하거나 필름에 중점을 두는 경우 고온 산화 RTP를 처리합니다.
니오브산리튬(광전자공학용)? 저온-RTP 장비를 사용하세요. 250~500도 범위에서는 고열 모델처럼 재료가 손상되지 않습니다.-
다음: 작업에 실제로 영향을 미치는 사양 살펴보기
기본 사항을 익힌 후에는 프로세스를 성사시키거나 중단시킬 사양을 확인할 차례입니다. 모든 숫자에 연연하지 마세요.-이 세 가지에 집중하세요.
온도 조절: 제대로 하지 않으면 부품이 손상될 수 있습니다
공정에 엄격한 온도 제어가 필요한 경우 타협하지 마십시오. 예를 들어:
저온-RTP 장비에는 배치의 모든 웨이퍼가 동일한 처리를 받도록 하는 데 적합한 860mm 평면 영역(일관된 열이 있는 영역)-이 있습니다.
고온 산화 RTP 장비는 작은 온도 변화에도 품질이 저하되는 SiO2 필름을 성장시키는 경우 ±0.5도 정확도-불가능-을 달성합니다.
낮은 온도와 높은 온도(예: 500~1000도) 사이를 전환하는 경우 반자동 또는 자동 RTP에는 낮은 온도용 열전쌍, 높은 온도용 고온계 등 이중 제어 기능이 있습니다. 수동 조정이 필요하지 않습니다.
자동화: 얼마나 많은 작업을 하시겠습니까?
자동화는 단순히 '멋진' 것이 아니라-일관성과 속도가 중요합니다.
한 사람이 샘플을 처리하는 실험실이라면 수동 로딩(데스크탑 RTP 장비)이 좋습니다. 일주일에 10개의 웨이퍼를 생산하는 데는 로봇이 필요하지 않습니다.
중간 볼륨의 경우 반자동 RTP의 자동 챔버 도어는-웨이퍼를 로드하고 시작을 누르면 도어가 자체적으로 열리거나 닫히는 시간을 절약합니다. 주변에 서 있는 일이 줄어들고 실수도 줄어듭니다.
대량-매장을 운영하시나요? 자동 RTP의 로봇은 로딩, 정렬 및 냉각을 처리하며{1}}생산 관리 시스템에 연결됩니다. 웨이퍼 파손률도 10,000분의 1 미만입니다. 다운타임으로 인해 비용이 발생한다면 투자할 가치가 있습니다.
분위기: 불순물을 차단하세요(필요한 경우)
공정이 산소에 민감한 경우(예: 반도체 도핑) 이 단계를 건너뛰지 마십시오.
반자동 및 자동 RTP는 산소를 1ppm- 미만으로 매우 깨끗하게 유지합니다. 또한 6개의 MFC(질량 흐름 컨트롤러)가 있어 필요한 방식으로 정확하게 가스 혼합을 조정할 수 있습니다.
데스크톱 RTP 장비는 3ppm 미만-으로 기본적인 작업에는 충분하지만 초순수 프로세스에는 적합하지 않습니다.-
단순 산화만 한다면 3ppm이면 충분합니다. 아주 작은 불순물이라도 성능을 저하시키는 칩을 만들고 있다면, 봄을 맞이하십시오.<1 ppm models.
마지막으로: 실용적인 것들을 잊지 마세요
아무리 좋은 난로도 공간이나 예산에 맞지 않으면 작동하지 않습니다.
공간: 먼저 측정하고 나중에 구매하세요
연구실인가요, 아니면 작은 가게인가요? 데스크톱 RTP의 크기는 910mm×860mm×695mm-대형 책상 크기입니다.
중간 시설? 반-자동 RTP(8-인치 모델)는 970mm×1550mm×2160mm 크기로 여전히 관리가 가능하지만 전용 공간이 필요합니다.
큰 공장? 자동 RTP의 이중-공동 모델은 2100mm×2450mm×2200mm입니다.{4}}이동할 공간이 있는지 확인하세요.
안전: 협상 불가능-(하지만 보장해 드립니다)
당사의 모든 모델은 안전에 관한 SEMI S2 표준-업계 규칙을 준수합니다. 그러나 일부에는 추가 혜택이 있습니다.
자동 RTP 장비에는 원-버튼 비상 정지 기능이 있으며 과열이나 누수에 대해 경고합니다.-연중무휴 작동에 매우 중요합니다.
데스크톱 RTP 장비에는 부저와 경고등이-간단하지만 여러 작업을 동시에 수행하는 실험실에 효과적입니다.
아직도 막혔나요? 우리가 도와드리겠습니다
솔직하게 말하자면-때때로 이야기를 해야 할 때도 있습니다. 아직 고민 중이라면(예: 볼륨 증가를 위해 반-자동과 자동 중에서 선택) 다음을 수행할 수 있습니다.
현재 워크플로와 확장 방법을 살펴보세요.
모델이 특정 프로세스를 처리하는 방법에 대한 데모를 보여줍니다.
필요에 맞게 모델을 조정할 수도 있습니다(추가 프로세스 튜브 추가 등).
우리는 '일률적인-크기-맞춤-'을 판매하지 않습니다.-귀하의 업무에 적합한 용광로를 판매합니다. 새로운 재료를 테스트하든, 생산 라인을 운영하든, 귀하에게 적합한 모델이 있습니다.
기술팀에 문의하시면-찾을 수 있도록 도와드리겠습니다.
