리소그래피 기계

나노 3D 리소그래피 시스템은 마이크로- 및 나노-규모 적층 제조용으로 설계된 고급 프로젝션-기반 마이크로{2}}광 조형(PμSL) 플랫폼입니다.

당사의 E-빔 리소그래피 시스템은 마이크로- 및 나노{3}}규모 패턴을 생성하기 위해 제작된 고급-장비입니다. 여기서 직접 기록을 위해 고에너지 전자빔을 사용합니다.- 전자빔이 샘플 표면을 스캔하고 노출하는 방법을 정밀하게 제어함으로써 매우 높은 해상도로 마스크 없는 패터닝을 수행할 수 있습니다. 고급 전자 광학, 실시간-수차 보정 및 다중-모드 이미징 기능도 탑재되어 있습니다. 반도체, 포토닉스, 양자 기술 등 첨단...

이 마스크리스 노광기는 간단히 말해서 "마스크" 없이 재료에 복잡한 패턴을 에칭할 수 있는 기계입니다. 이는 기존 스텐실 리소그래피보다 더 유연하고 비용 효율적이며-신속한 패턴 조정이 가능하므로 연구, 소규모 배치 생산 및 교육에 적합합니다.

반도체 생산 라인에 있어서 코팅 및 현상 시스템은 초기 칩 시제품부터 회로 패턴 형성까지 필수적인 핵심 장비입니다. 기판을 받은 후 코팅 및 현상 시스템은 먼저 고속-회전 시스템을 활성화합니다.