CVD 장비

Nice-Tech CV600/CV700 시리즈는 화합물 반도체 에피택셜 성장을 위한 고급{3}}대량 생산{4}} MOCVD 장치로, 독점적인 유성-위성 이중 회전 기술을 채택하여 단일-웨이퍼-레벨 균일성으로 다중{6}}웨이퍼 성장을 실현합니다.

Nice{0}Tech MC150/MC200/MC300 시리즈 MOCVD 장비는 고밀도 엇갈린 소스 가스 노즐과 제어 가능한 작은 주입 거리를 통해 고유한 에피택셜 균일성 이점을 갖춘 밀착형 수직 샤워헤드 가스 주입 모델을 채택합니다.-

GaN{0}}MOCVD는 고품질의 질화갈륨(GaN) 및 관련 화합물 반도체 박막을 증착하기 위해 설계된 특수 에피택시 성장 장비입니다.-

당사의 금속{0}}유기화학 기상 증착(MOCVD) 장비는 고품질 에피택셜 재료 증착 전용 핵심 제조 도구입니다.- 이 제품은 우주 태양전지, 광통신 및 광전자 공학 분야의 핵심 기초 재료인 갈륨 비소(GaAs), 인듐 인화물(InP), 갈륨 질화물(GaN) 및 기타 화합물 반도체 에피택셜 웨이퍼를 준비하기 위해 전문적으로 설계되었습니다.

수직 LPCVD TEOS/Poly/SiN은 반도체 제조용 저압{0}}화학 기상 증착 시스템입니다. 이는 고품질-Poly, TEOS, SiN 및 HTO 박막을 증착하는 데 사용됩니다.

Nice{{0}Tech는 Depomerits PE 100, PE 200, PE 300의 세 가지 PECVD 모델을 출시했으며, 이들 모델을 함께 사용하여 실험실 연구부터 소규모{4}}배치 실행, 대규모-대량 생산에 이르기까지 모든 주요 시나리오를 다루는 제품 매트릭스를 구성했습니다.

Nice-Tech' 8-인치 ICP-CVD 시스템은 8-인치 웨이퍼의 박막 증착을 위해 설계되었습니다.- 유도결합(ICP)을 통해 고밀도 플라즈마를 생성하고, 용량결합(CCP)을 통해 바이어스를 설정해 저온 증착이 가능하다.

LPCVD(저압 화학 기상 증착)는 핵심 반도체 공정 기술입니다. 저압 조건에서 기체 화합물을 가열하여 반응을 유발하고 기판 표면에 안정적인 고체 박막을 증착합니다. 이는 주로 질화 규소, 산화 규소, 다결정 규소와 같은 주요 필름을 만드는 데 사용되며 집적 회로, 광전자 장치 및 유사 분야의 핵심 공정 요구 사항에 적합합니다.