제품개요
나노 3D 리소그래피 시스템은 마이크로- 및 나노-규모 적층 제조용으로 설계된 고급 프로젝션-기반 마이크로{2}}광 조형(PμSL) 플랫폼입니다.
리소그래피-급 광학 시스템과 마스크 없는 직접-기록 기술을 활용하는 Ploceus 시리즈는 업계 최고의{2}}해상도를 최저1 μm, 뛰어난 치수 정확도로 복잡한 고{0}}종횡비-미세 구조, 다중-재료 장치 및 세라믹 부품을 제작할 수 있습니다.
이 시리즈에는 다양한 연구 및 산업 요구 사항을 충족하는 여러 정밀도 수준이 포함되어 있습니다.
LSS-20– 표준 정밀도(20μm)
LSS-10 /– 고정밀도(10μm)
LSS-05– 첨단 마이크로 정밀도(5μm)
LSS-02– 초정밀(2μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– 다중-렌즈 정렬 시스템(최대 1μm)
모듈식 구성 옵션, 다중{0}}해상도 전환 및 시각적 정렬 기능을 갖춘 Ploceus 시리즈는 신속한 프로토타이핑과 고정밀 미세 제작을 모두 지원합니다.-
장점
① 매우-높은 리소그래피 정확도
해결 방법20μm에서 1μm까지
±3 μm만큼 낮은 치수 공차
고종횡비 구조 제작
② 다중{0}}해상도 전환
1μm / 2μm / 5μm / 10μm / 20μm 간 빠른 전환
다양한 정밀도 요구 사항을 충족하는 단일 플랫폼
③ 다중-재료 호환성
수지
생체적합성 수지
하이드로겔(예: GelMA)
알루미나 세라믹 슬러리
고온-엔지니어링 수지
④ 시각적 정렬 및 WYSIWYG 처리
실시간-광 모니터링
자동 레벨링 및 초점
다중-재료 이질적 정렬
최대 2.5μm의 오버레이 정렬 정확도
⑤ 고속-인쇄 속도
기존 미세 가공 도구보다 5~50배 더 빠릅니다.
프로토타입 제작과 배치 연구 생산 모두에 적합
⑥ 모듈형 및 유연한 Vat 시스템
소재개발용 미니배트(15ml)
대량 생산을 위한 대형 통
고온-인쇄 모듈
자동 거품 제거 시스템-
응용
생의학 및 생명과학
· 미세유체 칩
· 오가노이드-on-a-칩 플랫폼
· 마이크로니들 어레이(고체 및 중공)
· 조직공학 지지체
· 약물 전달 시스템
· PDMS 마스터 몰드
고급 재료 및 메타물질
세라믹 격자 구조
그라데이션 메타물질
삼중 주기 최소 표면(TPMS)
기계적 메타물질
다공성 세라믹 지지체
초소형-기계 및 기능 장치
· 마이크로기어
· 마이크로 커넥터
· 광학 메타표면
· 마이크로-스프링
· 기능성 미세구조
매개변수
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모델 |
리소그래피 정확도 |
최소 레이어 두께 |
인쇄 공차 |
최대 인쇄 크기 |
렌즈 시스템 |
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LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50mm |
단일 렌즈 |
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LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50mm |
단일 렌즈 |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50mm |
단일 렌즈 |
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LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
듀얼 렌즈 |
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LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
듀얼 렌즈(정렬) |
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LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50mm |
트리플 렌즈(정렬) |
FAQ
Q: 1. 이 시스템은 어떤 기술을 사용합니까?
답변: 이 시스템은 프로젝션 마이크로{0}}광 조형 기술(PμSL)과 마스크 없는 직접 쓰기-광학 기술을 기반으로 하여 고정밀 마이크로/나노-스케일 3D 제작이 가능합니다.
Q: 2. 사용 가능한 최고 해상도는 무엇입니까?
A: 모델에 따라 리소그래피 정확도 범위는 다음과 같습니다.
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
최대 1μm(PL-3D-PT)
Q: 3. 어떤 자료가 지원되나요?
A: 시스템은 다음을 포함하여 광범위한 재료를 지원합니다.
기능성수지
생체적합성 수지
고온-엔지니어링 수지
하이드로겔(예: GelMA)
알루미나 세라믹 슬러리
요청 시 맞춤형 재료 호환성이 가능합니다.
Q: 4. 세라믹 구조물을 프린팅할 수 있나요?
답: 그렇습니다. 선택된 모델은 세라믹 슬러리 인쇄를 지원하여 다공성 세라믹 지지체, 격자 구조 및 메타물질을 제작할 수 있습니다.
Q: 5. 시스템이 다중-재료 프린팅을 지원합니까?
답: 그렇습니다. 고급 모델(PL-3D-PD / PL-3D-PT)은 최대 2.5μm의 오버레이 정렬 정확도로 다중 재료 이종 정렬 인쇄를 지원합니다.
Q: 6. 어떤 파일 형식이 지원되나요?
A: 시스템은 3D 모델 입력을 위해 STL 형식을 지원합니다.
Q: 7. 최대 인쇄 크기는 얼마입니까?
A: 모델에 따라 지원되는 인쇄 크기는 다음과 같습니다.
50mm × 50mm × 50mm
맞춤형 vat 구성이 가능합니다.
Q: 8. 이 시스템은 어떤 산업에 적합합니까?
A: 일반적인 응용 분야는 다음과 같습니다.
미세유체 칩 제조
미세바늘 어레이
조직 공학 비계
메타물질
메타표면
마이크로{0}}기계 장치
이는 생물 의학 연구, 첨단 재료 및 미세 가공 분야에서 널리 사용됩니다.
Q: 9. 설치 요구 사항은 무엇입니까?
A: 온도: 20~40도
습도: 상대습도 < 60%
표준 실험실 환경
기본 작동에는 클린룸이 필요하지 않습니다(응용 분야 요구 사항에 따라 다름).
Q: 10. 기존 SLA 또는 DLP 3D 프린터와 비교하면 어떻습니까?
A: Ploceus 시스템은 다음을 제공합니다.
리소그래피-등급 광학 정확도
미크론-레벨 분해능(1~5μm)
더 높은 치수 안정성
다중-재료 정렬 기능
일반적인 프로토타입 제작보다는 마이크로/나노 제작에 적합하도록 설계되었습니다.
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